11月18日,主营半导体专用设备业务的盛美上海(688082.SH)举行了科创板上市周年庆暨新品发布会。此次发布的新产品是前道涂胶显影设备UltraLITH,这标志着盛美上海正式进入了半导体前道光刻领域。
11月18日,主营半导体专用设备业务的盛美上海(688082.SH)举行了科创板上市周年庆暨新品发布会。此次发布的新产品是前道涂胶显影设备Ultra LITH,这标志着盛美上海正式进入了半导体前道光刻领域。
盛美上海董事长王晖博士在发布会上表示:“我荣幸地宣布,盛美上海已正式进军Track市场,这将成为我们的又一大新产品品类。Gartner数据显示,2022年全球Track市场规模将达37亿美元,这是盛美上海发展的新契机。得益于盛美上海在软件和机械手技术方面的核心竞争力,加之涂胶显影设备的优良性能以及具有全球专利申请保护的全新架构,我们可以凭借竞争性产品及服务成功进军Track市场,这也标志着我们在满足当前及未来前道光刻工艺需求中迈出了关键的第一步。我们相信这款全新产品会有巨大的需求潜力”。
盛美上海此次发布的新品用于前道300mm晶圆的涂胶显影,具有4个12英寸装载端口,8个涂胶腔和8个显影腔,可进一步扩展到12个涂胶腔和12个显影腔,适用于i-line、KrF和ArF等多种材料的涂胶显影工艺。
公司介绍称,早在2013年时,盛美上海便研发出了用于后道封装的涂胶设备及显影设备,并于2014年交付首台订单。在经过多年涂胶及显影技术的积累后,公司终于在前道光刻领域迎来突破。
盛美上海2022年半年报表示,公司的主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管设备和先进封装湿法设备,通过多年的技术研发,公司在上述产品领域均掌握了相关核心技术,这些核心技术均在公司销售的产品中得以持续应用并形成公司产品的竞争力。
来源:中国证券报·中证网 作者:周佳
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